VacCoat社

Vac Coat有限公司は高品質カスタム物理蒸着（PVD）システムの設計者とメーカーであり、カスタマーサービスとアフターサービスに優れている。25年以上の真空及び薄膜堆積技術経験を持つ。その研究開発チームは学界の科学者とエンジニアの支持の下で、顧客の特別な要求に応えるために新しい設計を高度に積極的に開発した。

Vac Coatのエンジニアリングチームが設計し製造したコンポーネントは高品質基準を満たしています。Vac Coatの真空コーティング機システムは、ディストリビュータを通じて多くの大学や研究センターに販売されており、良い参考とフィードバックを得ています。

一、DSR1

機器の説明：

この製品はデスクトップマグネトロンスパッタリングコーティング機であり、非導電性または導電性不良のサンプルに金（Au）、パラジウム（Pd）、白金（Pt）および金／パラジウム（Au／Pd）の薄膜を塗布することができる。比較的短時間で細粒度を有する均一な薄膜を形成することができ、試料を走査電子顕微鏡（SEM）分析に適用することができる。器具の構造はコンパクトで、全自動制御で、設計は人間工学に符合し、得られた結果は一致し、再現性が高い。

製品特徴：

•7’’カラータッチスクリーン：データ入力が簡単で迅速

•タッチスクリーンでデータとカーブを直感的に検出する、履歴ページには、300個の履歴コーティング情報が表示されます。

•制御可能なめっき速度、より微細な結晶粒構造を得ることができる

•時間や厚さに応じたスパッタリングを手動または自動で行うことができる

•ネットワークに接続してユーザーフレンドリーなソフトウェアを更新可能

•高精度石英結晶厚モニタ（1 nmまでの精度）を搭載可能

•試料台の交換が簡単：標準回転試料台または遊星式回転試料台を選択する。標準サンプル台の高さは調整可能、傾斜可能、回転可能、惑星式回転試料台は多孔質試料に良い金噴霧効果をもたらす。

•曲線および堆積プロセスのデータをUSBポートを介してPCに転送可能

•CE準拠

：

•2インチマグネトロンカソード

•2段直進4 m 3/hロータ機械ポンプ

•Pyrexサンプル倉庫：外径170 mm、高さ140 mm、

•サイズ：50（W）x 37（D）×45（H）Cm

・輸送重量（真空ポンプを含む）：42 kg

•電源：220 V-240 V、50/60 HZ-10 A

•限界真空度：40 mTorr未満

•電子制御シャッター

•電子制御真空バルブ

二、DCR

機器の説明：

DCRはコンパクトな構造の卓上炭素めっき装置である。走査型電子顕微鏡（SEM）、透過型電子顕微鏡（TEM）、及びエネルギー分光分析（EDX）サンプル製造に使用することができる。

製品特徴：

•Flash式またはPulsed式炭素めっきが可能：Pulsedパルス式炭素めっき：短パルスはより制御可能な堆積方式を提供し、従来の炭素めっきに比べて、屑が顕著に減少する

•7’’カラータッチスクリーン：データ入力が簡単で速い、真空度、電流、厚さなどのめっきパラメータはタッチスクリーン中のデータや曲線を通じて直感的に監視することができる、履歴ページには、300個の履歴コーティング情報が表示されます。

•ネットワークに接続してユーザーフレンドリーなソフトウェアを更新可能

•コーティングパラメータグラフの記録と描画が可能

•高精度石英結晶厚モニタ（1 nmまでの精度）を搭載可能

•試料台の交換が簡単：標準回転試料台または遊星式回転試料台を選択する。標準サンプル台の高さは調整可能、傾斜可能、回転可能、惑星式回転試料台は多孔質試料に良い金噴霧効果をもたらす。

•曲線および堆積プロセスのデータをUSBポートを介してPCに転送可能

•CE準拠

：

1、真空ポンプ：二極直駆動ロータ機械ポンプ（4 m 3/h）

2、限界真空度：50 mTorr未満

3、Pyrexサンプル倉庫：外径170 mm、140 mm、

4、0-25 Aパルス直流スイッチング電源

5、サイズ：450 x 500 x 370 mm（HxWxD）

6、電源：220 V-240 V、50/60 HZ-10 A

7、電子制御シャッター

8、精密真空圧力制御弁

9、USBデータ転送ポート

10、輸送重量：46 kg

三、DSCR

機器の説明：

DSCR型卓上多機能コーティング装置は、イオンスパッタリングシステムと炭素めっきシステムを一体化したコンパクトなコーティングシステムである。このシステムは、非導電性または導電性の悪い試料上に金（Au）、パラジウム（Pd）、白金（Pt）、および金／パラジウム（Au／Pd）などの貴金属をスパッタすることができ、試料上に炭素膜をめっきすることができる。

DSCRは多機能走査電子顕微鏡製試料装置である。全自動操作オプションにより、初心者でもシステム、イメージのユーザーフレンドリーなソフトウェアを簡単に使用でき、堆積情報の感知が簡単になります。

製品特徴：

•精密複製可能コーティング：繰り返し可能な膜厚堆積

•高分解能微細コーティング（金粒子は2 nmまで）

•低圧スパッタリング

•冷却システム不要

•Flash式またはPulsed式炭素めっき：Pulsedパルス式炭素めっき：短パルスはより制御可能な堆積方式を提供し、伝統的な炭素めっきに比べて、屑が著しく減少し、二重炭素繊維蒸着を使用して、厚層堆積に使用することができる

•操作しやすい：7’’’カラータッチスクリーンは塗布過程を直感的に制御し、データ入力が簡単で迅速

•ユーザーフレンドリーな全自動および半自動制御ソフトウェア

•高精度石英結晶厚モニタ（1 nmまでの精度）を搭載可能

•試料台の交換が簡単：標準回転試料台または遊星式回転試料台を選択する。標準サンプル台の高さは調整可能、傾斜可能、回転可能、惑星式回転試料台は多孔質試料に良い金噴霧効果をもたらす。

•曲線および堆積プロセスのデータをUSBポートを介してPCに転送可能

•CE準拠

：

1、真空ポンプ：二極直駆動回転機械ポンプ（4 m 3/h）

2、Pyrexサンプル倉庫：外径170 mm、140 mm、

3、計器寸法：45（H）x 50（W）37×（D）Cm

4、2インチマグネトロンカソード

5、限界真空度：50 mTorr未満

6、電子制御シャッター

7、自動制御リーク弁

8、電源：220 V-240 V、50/60 HZ-10 A

9、80 W直流スイッチング電源

10、輸送重量：42 kg

四、DST1-170

製品の説明：

DST 1−170はコンパクトな構造の卓上マグネトロンイオンスパッタリング装置である。不活性金属及び酸化性金属を含む金属材料のスパッタリングに適しており、DST 1−170は直径2インチのマグネトロン陰極を備えている。結晶粒径が均一な薄膜を短時間で形成することができる。

DST 1-170高真空スパッタリング装置は、高品質の均一な薄膜を提供することができ、比較的に細い結晶粒サイズを有し、FE-SEM、EDS/WDS、TEMとEBSDなどのサンプルの分解と品質特性評価に非常に適し、科学研究と各種薄膜の応用研究にも応用することができ、例えば：ナノとマイクロ電子、太陽電池応用、光学素子コーティング薄膜センサなど。

製品特徴：

•高真空タービンポンプ90 L/S（Leybold）＋2段旋盤式真空ポンプの前段ポンプは、機器に清浄な高真空を提供し、汚染を減少させた。

•コーティング速度が制御可能で、より細かい結晶粒構造を得ることができる

•時間や厚さに応じたスパッタリングを手動または自動で行うことができる

•7’’カラータッチスクリーン：データ入力が簡単で速い、真空度、電流、厚さなどのめっきパラメータはタッチスクリーン中のデータや曲線を通じて直感的に監視することができる、履歴ページには、300個の履歴コーティング情報が表示されます。

•タッチスクリーンは塗布過程を直感的に制御し、データ入力が簡単で迅速

•ネットワーク経由で更新可能なユーザーフレンドリーなソフトウェア

•コーティングパラメータマップの記録と描画が可能

•高精度石英結晶厚モニタ（1 nmまでの精度）を搭載可能

•試料台の交換が簡単：標準回転試料台または遊星式回転試料台を選択する。標準サンプル台の高さは調整可能、傾斜可能、回転可能、惑星式回転試料台は多孔質試料に良い金噴霧効果をもたらす。

•曲線および堆積プロセスのデータをUSBポートを介してPCに転送可能

•CE準拠

：

1、高真空タービンポンプ90 L/S（Leybold）

2、二極直駆動ロータ機械ポンプ（4 m 3/h）

3、限界真空：5 x 10-6 Torr未満

4、圧力と独立してスパッタ電力を自動制御する

5、全レンジ真空計（Leybold）

6、ISO-KF 63バタフライバルブ

7、80 W直流電源

8、電子制御シャッター

9、電気制御アルゴンガス漏れ弁

10、施設：220 V-240 V、50/60 HZ-16 A

11、輸送重量：36 kg

五、DCT

製品の説明：

DCRはタービンポンプを搭載した炭素めっき装置であり、細粒度が均一な高品質炭素膜を提供することができ、高分解能と高品質の特徴づけが必要なサンプルに適しており、特にFE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSDと薄膜応用研究などに適している。

製品特徴：

•Flash式またはPulsed式炭素めっきが可能：Pulsedパルス式炭素めっき：短パルスはより制御可能な堆積方式を提供し、従来の炭素めっきに比べて、屑が顕著に減少する

•7’’カラータッチスクリーン：データ入力が簡単で速い、真空度、電流、厚さなどのめっきパラメータはタッチスクリーン中のデータや曲線を通じて直感的に監視することができる、履歴ページには、300個の履歴コーティング情報が表示されます。

•ネットワークに接続してユーザーフレンドリーなソフトウェアを更新可能

•コーティングパラメータグラフの記録と描画が可能

•高精度石英結晶厚モニタ（1 nmまでの精度）を搭載可能

•試料台の交換が簡単：標準回転試料台または遊星式回転試料台を選択する。標準サンプル台の高さは調整可能、傾斜可能、回転可能、惑星式回転試料台は多孔質試料に良い金噴霧効果をもたらす

•曲線および堆積プロセスのデータをUSBポートを介してPCに転送可能

•炭素棒の蒸発源と適切な大電流電源を選択可能

•CE準拠

：

1、高真空タービン分子ポンプ90 l/s Leybold

2、分子ポンプの前段ポンプとしての二段旋盤式真空ポンプ

3、全レンジ真空計

4、真空倉庫：外径170 mm、140 mm

5、0-25 Aパルス直流スイッチング電源

6、限界真空度：50×10-6 Torr未満

7、サイズ：450 x 500 x 370 mm（H×W×D）

8、電源：220 V-240 V、50/60 HZ-10 A

9、真空圧力を正確に制御するための精密計量弁

10、電子制御シャッター

11、コーティングパラメータのリアルタイム図

12、USBデータ転送ポート

13、輸送重量：46 kg

六、DSCT

製品の説明：

DSCTは多機能なコーティングシステムであり、スパッタリングコーティング機と繊維炭素コーティング機を一体化している：1台の器具の中に交換可能な磁気ヘッドを持っている。

DSCT高真空コーティング機は、結晶粒サイズが非常に細い高品質均一薄膜を提供することができ、FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSDなどの高分解能と高品質特性化が必要なサンプルに適している。

DSCTは2''マグネトロン陰極、80 w直流スイッチング電源と炭素蒸発大電流電源を有し、科学研究及び異なる薄膜の応用研究にも用いることができる。

製品特徴：

•高真空タービンポンプ90 L/S（Leybold）＋2段旋盤式真空ポンプの前段ポンプは、機器に清浄な高真空を提供し、汚染を減少させた。

•コーティング速度が制御可能で、より細かい結晶粒構造を得ることができる

•Flash式またはPulsed式炭素めっきが可能：Pulsedパルス式炭素めっき：短パルスはより制御可能な堆積方式を提供し、従来の炭素めっきに比べて、屑が顕著に減少する

•時間や厚さに応じたスパッタリングを手動または自動で行うことができる

•7’’カラータッチスクリーン：データ入力が簡単で速い、真空度、電流、厚さなどのめっきパラメータはタッチスクリーン中のデータや曲線を通じて直感的に監視することができる、履歴ページには、300個の履歴コーティング情報が表示されます。

•タッチスクリーンは塗布過程を直感的に制御し、データ入力が簡単で迅速

•ネットワーク経由で更新可能なユーザーフレンドリーなソフトウェア

•コーティングパラメータマップの記録と描画が可能

•高精度石英結晶厚モニタ（1 nmまでの精度）を搭載可能

•試料台簡単：標準回転試料台または遊星式回転試料台を選択します。標準サンプル台の高さは調整可能、傾斜可能、回転可能、惑星式回転試料台は多孔質試料に良い金噴霧効果をもたらす。

•曲線および堆積プロセスのデータをUSBポートを介してPCに転送可能

•CE準拠

：

1、限界真空：5×10-6 Torr未満

2、圧力と独立してスパッタリング速度を自動制御する

3、真空圧力を正確に制御するための精密質量流量計（MFC）

4、USBポートを通じて曲線と堆積過程のデータをPCに転送することができる

5、施設：220 V-240 V、50/60 HZ-16 A

6、輸送重量：42 kg

全体モデルの選択：

機器の特徴：

VacCoatはイオンスパッタリング金噴霧器、炭素めっき器、および金噴霧と炭素めっきを一体化した型番を持っており、ユーザーは使用しないことに応じて、高真空と低真空の異なる型番を選択することができる。

VacCoatめっき装置は、結晶粒サイズが非常に細い高品質均一薄膜を提供することができ、高分解能とサンプルの特徴付けに非常に適している。

•噴金システムは2''マグネトロン陰極を有し、磁気制御建設、サンプルの損傷を減少する、

•炭素めっきシステムは80 w直流スイッチング電源と炭素蒸発大電流電源を搭載し、科学研究及び異なる薄膜の応用研究にも使用できる。

•炭素めっきシステムはFlash式またはPulsed式炭素めっきを行うことができる：Pulsedパルス式炭素めっき：短パルスはより制御可能な堆積方式を提供し、伝統的な炭素めっきに比べて、砕屑は顕著に減少する

•高真空モデルターボ分子ポンプ90 l/s Leybold搭載

•分子ポンプの前段ポンプとして二段ローター式真空ポンプを使用する

•フルレンジ真空計付き

•高精度石英結晶厚さモニタを選択でき、厚さ測定精度は1 nmに達することができる。

•タッチスクリーンは塗布過程を直感的に制御し、データ入力が簡単で迅速

•ネットワーク経由で更新可能なユーザーフレンドリーなソフトウェア

•制御可能なコーティング速度、より細かい結晶粒構造を得ることができる

•手動または自動で、時間や厚さに応じてスパッタリングでき、建設作業が柔軟で簡便

•コーティングパラメータマップの記録と描画が可能

•電気制御シャッター搭載

•サンプル台の交換が簡単：標準サンプル棚、高さ調整可能で回転可能、多孔質試料に適した遊星式回転試料ホルダを選択することもできる