製品機能の紹介：

アルゴンイオン研磨システムは試料の断面製造及び平面研磨のためのデスクトップ型試料製造装置であり、試料がSEM及び他の装置で検査分析を行うために使用される。IlionIIを用いた研磨加工が可能な材料の種類は非常に広く、多元素からなる試料や、異なる機械的硬度、寸法、物理的特性を持つ合金、半導体材料、ポリマー、鉱物などが含まれる。例えば、溶接断面、集積回路溶接点、多層フィルム断面、粒子、繊維断面、複合材料、セラミックス、金属及び合金、岩石鉱物及びその他の無機非金属などの各種材料のSEM、EBSDサンプル。

製品の主な技術パラメータ：

1.イオン銃：希土類磁石を備えた2つの三元構造（陰極、陽極と集束極）潘寧イオン銃、集束イオンビーム設計、高性能無消耗材

2.研磨角度：＋10°〜−10°で、イオン銃ごとに独立に調整可能

3.イオンビームエネルギー：100 Vから8.0 kV

4.イオンビーム流密度：10 mA/cm 2ピーク

5.研磨速度：300μm/h（8.0 kV条件下でシリコン試料に対して）

6.サンプル積載：Ilionサンプルバッフル、組立が簡単で、再度研磨位置が正確で、繰り返し使用でき、Sample Stubと合わせて直接SEMに行って観察することができる

7.サンプル回転：0.5〜6 rpm連続調整可能

8.ビームフロー変調：イオンビーム変調機能、扇形断面研磨（扇形角度は10〜90度調整可能）と平面研磨を行うことができる

9.サンプル観察：デジタルズーム顕微鏡、PCとDigital Micrographソフトウェアを搭載して画像を収集し、Gatan Digital Micrographソフトウェアを通じてリアルタイムイメージング（300 x-2200 x）と画像記憶と分析を行うことができる

10.液体窒素冷却テーブル：液体窒素冷却テーブルを配置し、サンプルzuiの低温度は−120°Cに達することができ、イオンビームによるサンプルへの損傷を効果的に減少する

真空システム：

11.ドライポンプシステム：2段ダイヤフラムポンプは80リットル/秒のターボ分子ポンプを支持する

12.圧力：5 x 10-6 Torr基本圧力、8.5 x 10-5 Torr動作圧力

13.真空ゲージ：主試料室用の冷陰極型、前段メカニカルポンプ用のソリッドタイプ

14.サンプルエアロック：Whisperlok設計、サンプル交換時間<1 min、サンプル室の真空を破る必要はない

ユーザーインタフェース：

15.10インチタッチスクリーン：操作が簡単で、すべてのパラメータを完全にプログラム化してレシピ操作可能に制御することができます。

16.操作モード：異なる加工パラメータの組み合わせをカスタマイズし、ワンクリック操作を実現する。

主な用途：

EBSDサンプルの調製

断面サンプルの調製

きんぞくざいりょう

石油地質岩石鉱物

光電材料

化学工業高分子材料

新エネルギー電池材料

電子半導体デバイス

PCB回路版断面研磨SEM図

亜鉛めっき鋼板断面研磨

Zn結晶粒

Fe結晶粒