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電界放出透過型電子顕微鏡HF-3300
日立の名を馳せる冷電界放出電子源と300 kV加速電圧技術が共同で超高解像度イメージングと高感度分析機能を構築した。デュアルプリズムホログラフィー技術、空間分解電子エネルギー損失スペクトル及び高精度平行ナノ電子ビーム回折技術は高効率、高精度サンプル分析の新しい道を切り開いた。
製品の詳細
電界放出透過型電子顕微鏡HF-3300
日立の名を馳せる冷電界放出電子源と300 kV加速電圧技術が共同で超高解像度イメージングと高感度分析機能を構築した。デュアルプリズムホログラフィー技術、空間分解電子エネルギー損失スペクトル及び高精度平行ナノ電子ビーム回折技術は高効率、高精度サンプル分析の新しい道を切り開いた。
特徴
解像度
0.1 nm（結晶格子）
0.19 nm（点対点）
0.13 nm（情報限界）
拡大倍率
200倍～150000倍
かそくでんあつ
300 kV, 200 kV*, 100 kV*
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関連製品区分
- しゅうそくイオンビーム
- TEM/SEMサンプルの前処理装置
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