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製品の詳細
25 nm分解能を有する波長帯域スライスのSEM画像X−Ray波帯プレート
高品質のX線光学系は、検証された分解能、効率と信頼性、低コストを有し、ptychography、STXM、TXMと位相コントラストイメージングの軟X線と硬X線に適している。利点
異なる金属（金またはニッケル）を利用することで、一連のエネルギーの効率を高めることができる。同図はANT波長帯域パッチソフトウェアから生成された画像である。
高分解能帯域プレートは、広範囲のエネルギー範囲で最高の分解能と効率を提供することができる。18 nm（Δr）分解能の波長帯域プレートは高分解能を提供し、水窓効率は20%より高い。18 nm Au FZP画像、直径270μm、中心絞り設計。
Applied Nanotoolの波長帯域パッチは、大径のptychographyや数ミリの<1 nm縫合誤差など、さまざまな用途に使用できます。直径0.85 mmの波長帯域パッチ画像
高位相コントラストイメージングは、分解能が50 nm以下の硬X線応用に適している。波長帯域シートの均一性は、高位相ライニングイメージングの重要な構成部分である。軟X−Ray指標
5 keV未満（＜0.25 nm）のX線は通常、高エネルギーX線よりも吸収されやすい軟X線に分類される。一般に、波長帯域プレートは同じ厚さ効率を必要とせず、より高解像度のイメージングを可能にする。軟/細X線の一連の波長帯域プレートオプションは、特定の要件を満たすことができます。
| Device | Outer Zone Width ΔRn(nm) | Thickness (µm) | Outer Diameter (µm) | (# of zones) E/ΔE Limit | ~ Focal Length (µm) | Estimated Lead Time |
|---|---|---|---|---|---|---|
| NZP-50um-12nm | 12 | 0.05 + 0.01 | 50 | 1059 | 144 | Please Contact |
| NZP-65um-15nm | 15 | 65 | 1096 | 235 | ||
| SZP‑90um‑15nm | 15 | <0.1 | 90 | 1514 | 325 | 2-3 |
| SZP‑120um‑15nm | 120 | 2019 | 433 | |||
| SZP‑200um‑18nm | 18 | <0.15 | 200 | 2797 | 868 | In Stock |
| SZP‑270um‑18nm | 270 | 3775 | 1172 | |||
| SZP‑320um‑18nm | 320 | 4473 | 1389 | |||
| SZP-200um-25nm | 25 | <0.24 | 200 | 2007 | 1207 | In Stock |
| SZP‑250um‑25nm | 250 | 2509 | 1510 | |||
| SZP-300um-25nm | 300 | 3010 | 1811 | |||
| SZP-360um-25nm | 360 | 3612 | 2173 | |||
| TZP‑160um‑50nm | 50 | <0.75 | 160 | 801 | 1934 | 2 – 3 |
| TZP‑280um‑50nm | 280 | 1401 | 3384 | |||
| TZP‑750um‑200nm | 200 | <0.75 | 750 | 938 | 36292 | 1 – 3 |
| TZP‑1250um‑200nm | 1250 | 1563 | 60487 | |||
| *For estimated efficiency of zone plate, please see generated graphs below or download our zone plate software. | ||||||
ハードX−Ray指標
5〜10 keVを超えるX線は、より良好な画像形成を提供するために試料をよりよく透過することができる軟弱から硬X線に変換される。硬X線フレネル波帯プレートは、5 keV以上のエネルギーに十分な効率と分解能を提供するために、高アスペクト比機能を必要とする。我々の現在の光学系は、必要なエネルギーに応じてサブ25 nm〜100 nmイメージングに超高分解能を提供することができる。ハードX線のスタック（二重処理やチップアライメントによる）を行うことで、デバイスの効率を大幅に向上させることができます。ハードX線の波長帯域スライスオプションの範囲は、特定の要件に使用できます。
| Device | Outer Zone Width ΔRn(nm) | Thickness (µm) | Outer Diameter (µm) | (# of zones) E/ΔE Limit | Energy Range (keV) | Estimated Lead Time (months) |
|---|---|---|---|---|---|---|
| HZP-50-25nm | 25 | >0.65 | 50 | 500 | 1.5 to 10 | 2 – 3 |
| HZP-75-25nm | 75 | 750 | 2 – 3 | |||
| HZP‑100um‑42.5nm | 42.5 | >0.8 | 100 | 588 | 2 to 12 | 2 – 3 |
| HZP‑85um‑50nm | 50 | >0.9 | 85 | 425 | 2 to 12 | 2 – 3 |
| HZPX‑85um‑50nm | >1.7 | 5.5 to 20 | 4 – 6 | |||
| HZP‑180um‑50nm | >0.9 | 180 | 900 | 2 to 12 | 2 – 3 | |
| HZP‑550um‑50nm | >0.9 | 550 | 2750 | 2 to 12 | 2 – 3 | |
| HZPX‑550um‑50nm | >1.5 | 5.5 to 20 | 4 – 6 | |||
| HZP-400um-100nm | 100 | >1.2 | 400 | 1000 | 2.5 to 8 | 2 – 3 |
| HZPX‑400um‑100nm | >2.6 | 8 to 30 | 4 – 6 | |||
| HZP‑400um‑120nm | 120 | >1.5 | 400 | 834 | 5 to 25 | 2 – 3 |
| HZPX‑400um‑120nm | >2.6 | 8 to 30 | 4 – 5 | |||
| HZP‑750um‑200nm | 200 | >2.2 | 750 | 938 | 7 to 20 | 3 – 4 |
| HZPX‑750um‑200nm | 200 | >3.6 | 12 to 50 | 4 – 5 | ||
| *For estimated efficiency of zone plate, please see generated graphs below or download our zone plate software. All zone plate diameters can be customized for specific setups. Standard frame sizes are 3 mm x 3 mm with SiN membranes (100 nm). | ||||||
Oxide Interlock process for Hard X-Ray Optics
Zone plate efficiency for binary zone plates requires high aspect ratio structures which can survive high flux imaging systems. The “Oxide Interlock” option creates small interconnecting channels between metal zone of silicon dioxide which is transparent to hard X-rays and does not swell or distort, even when not under vacuum. These have been shown to significantly increase the zone plate efficiency and lifetime.
Oxide Interlock process with silicon dioxide links between the gold zones, improving performance and lifetime of the zone plate optics. This comes standard on all hard X-ray optics. The silicon dioxide is highly transparent for hard X-rays.センタ絞り
中心絞りおよび外側絞りオプションは、帯域板イメージングを大幅に改善し、光学デバイスの0次を低減し、寿命を向上させることができる。3μmまでの種々の厚さを有するチップは、個々のチップとして10μm以上使用することができる。高分解能18 nm外域フレネル波帯シート上部めっき4μm厚中心死点
4 um thick central stop electroplated on top of Fresnel zone plate with high resolution 18 nm outer zonesCustom Designs and Frame Size
Custom designs and frame sizes can be developed for specific applications. We are able to fabricate devices down to 0.1 mm and below. Our standard frame sizes are 5 mm x 5 mm and membrane thickness can be down to 50 nm while the 100 nm thickness is ideal for energies above 5 keV. We also offer silicon carbide membranes for those requiring long-lifetime membranes.
Custom silicon nitride, silicon carbide or silicon membranes down to 0.9 mm half dimensions. Image above showing 1 cm x 1 cm (top), 5 mm x 5 mm (bottom left) and 0.9 mm x 5 mm chips.XY Stage for Zone Plates/Central Stop Alignment
Our custom XY stage allows micro-scale alignment of a central stop and zone plate and also allows for a possible blast-shield to be mounted.XY micrometer scale stage holder for central stop and zone plate alignment with blast shield
バンドスライス計算機
Applied Nanotools offers a free online zone plate calculating theoretical efficiencies and for calculating Fresnel zone plates parameters. Please see this link to visit the webpage: Zone Plate Calculator. For the legacy software please download here (note, this version is being replaced with the new website version).
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