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水洗式Scrubber排ガス処理装置
Scrubber排ガス処理装置の処理可能ガスの種類には、半導体、液晶、太陽光などの業界におけるエッチングプロセスと化学蒸着プロセスで使用される特別ガスが含まれ、主にSiH 4、SiH 2 Cl 2、PH 3、B 2 H 6、TEOS、H 2、CO、NF 3、SF 6、C 2 F 6、WF 6、NH
製品の詳細
Scrubber排ガス処理装置
半導体プロセスにおいてよく使用される化学物質及びその副生成物は、一般的にその化学特性と異なる影響範囲に応じて、次のように分けることができる:
SiH 4 H 2等の可燃性ガス
2毒性ガス、例えばAsH 3、PH 3など
3 HF、HClなどの腐食性ガス
CF 4、NF 3などの温室効果ガス4
以上の4種類のガスは環境に対しても人体に対しても一定の危害性があり、大気中への直接排出を防止しなければならないため、一般的に半導体工場は大型中央排気ガス処理システムを装填する.しかし、このシステムは排ガスを水で洗浄するだけである.そのため、その応用範囲は水溶性ガスの処理に限られ、日進月歩で微細な半導体プロセス排ガスを分業することはできない.
Scrubber排ガス処理装置半導体プロセス排ガス処理方式
排ガス処理の特性に応じて、処理は4つの処理方式に分けることができる:
1水洗式(腐食性ガス処理)
2酸化式(処理燃焼性、毒性ガス
3吸着式(乾式)(吸着材の種類に応じて対応する排ガスを処理する
4プラズマ燃焼式(各タイプ排ガス処理可能)
各タイプの処理には長所と短所と適用範囲がある.処理方式で水洗する場合、設備が安価で処理方式が簡単で、水溶性ガスしか処理できない、電気温水洗浄式の応用範囲は水洗浄時より、運転コストが高い、乾式処理は効率が良く、詰まりやガス流には適していない。
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