特点

本設備は主に真空キャビティ、誘導加熱装置からのスプレー鋳造装置、ストリップ装置、真空引きシステムである。

銅ローラ線速度：5~60m/S

各ストリップ、スプレー鋳造合金：5g~50g

真空鋳造装置（標準装備に含まれない）

しゅつりょく

要件

電圧：AC380V、三相

*大出力15KW（必要60Aの空気スイッチ）

しんくうキャビティ

&

しんくうポンプ

真空チャンバ寸法: Φ500 mm x 400 mm L

石英観察窓が取り付けられたヒンジ形式のキャビティドア

設備には分子ポンプシステムが設置されている

真空度：5 x10 E-5 torr （20分以内）

げんかいしんくうど10E-7 torr（焼くことにより）

誘導加熱システム及び温度制御システム

加熱電源電力：15Kw;周波数範囲：30~80KHz

ようゆうしりょう: 10 - 50g (材料による).

**の温度制御システム、採用B型熱対、設定可能30段昇降温プログラム

温度制御精度：+/- 2℃

るつぼ

顧客の要求に応じて石英るつぼまたはBNるつぼ

どうロール

標準配置銅ロールは水を含まずに冷却する

銅ローラ線速度：5~60m/S

オプション:

水冷銅ロールを選択することができ、*大処理サンプル量は500g

真空鋳造モジュールを選択可能

オプション

部品

要求に応じて鋳造部品（鋳造、噴霧鋳造）を選択購入することができる

必要に応じて鋳造銅金型の水冷システムをカスタマイズすることができる

外形

寸法すんぽう

2000×1100×1800mm(L×W×H)

デバイス

じゅうりょう

~800Kg

品質

資格認定

CE資格認定