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グラフェンナノシート（1 ~ 2 nm）
簡単な説明：製造方法：層間触媒分解法の厚さ：~2 nm直径：5 ~ 10 um純度：98%酸素含有量：1.44%導電率：~2597 s/cm
製品の詳細
製造方法：
層間触媒分解法
厚さ：~2nm
直径：5 ~ 10 um
純度：98%
酸素含有量：1.44%
導電率：~2597 s/cm
製造方法：
層間触媒分解法
厚さ：~2nm
直径：5 ~ 10 um
純度：98%
酸素含有量：1.44%
導電率：~2597 s/cm
製造方法：
層間触媒分解法
厚さ：~2nm
直径：5 ~ 10 um
純度：98%
酸素含有量：1.44%
導電率：~2597 s/cm
製造方法：
層間触媒分解法
厚さ：~2nm
直径：5 ~ 10 um
純度：98%
酸素含有量：1.44%
導電率：~2597 s/cm
| 製品名 | あつさ | ちょつけい | 仕様 |
| グラフェンナノシート（2 ~ 10 nm） | 2~10nm | ~5um | 50g/500g |
| グラフェンナノシート（1 ~ 2 mm） | 1~2mm | 5~10um | 500mg |
| グラフェンナノシート（1 ~ 5 mm） | 1~5mm | ~5um | 1g/5g/10g |
Typical SEM Image of ACS Material Graphene Nanoplaets (1-2nm)
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