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製品の詳細
キャリブレーションサンプル
高解像度キャリブレーション標本：概要
Applied Nanotoolsは、最高解像度アプリケーションにX線、EUV、可視光顕微鏡の較正基準を提供する。これらの高品質な光学素子には、以下のSEM画像で見ることができる様々なキャリブレーション素子が含まれています。
ANT Design
ANTキャリブレーション標準設計は、ナノスケールの特徴を有するX線イメージングシステムのための最高解像度要件である。軟X線及び硬X線機構及び光学設定に適している。
Nested Ls
ネストされたLsまたはエルボは、高解像度測定を可能にし、間隔と効率を保証します。高分解能基準では15 nm半ピッチまで低かった。
Siemen star
このパターンは、X線と他の撮像方法との光学分解能の較正と正確な比較を可能にする。
NanoUSAF 1951
Applied Nanotoolのカスタム設計NanoUSAF 1951はUSAF 1951に基づいて設計されているが、ミクロンではなくナノメートルの特徴がある価格リスト
| Device | Base Price |
|
Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au)
(15 nm half pitch) |
USD $5000 |
|
Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au)
(20 nm half pitch or better) |
USD $4500 |
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Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au)
(25 nm half-pitch or better) |
USD $6000 |
| Features Include: • Nested L’s • Siemen star patterns (large and small) • Varying pitch gratings and meshe • Nano USAF 1951 |
|
| Customization | Extra Fee |
| • Custom Logo (Max 50 µm2area) | $1000 |
| • Low stress 50 nm silicon nitride membrane | $2000 |
| • Low stress 100 nm silicon carbide membrane | $2500 |
| • Fused Silica Substrate (~500 um thick) Chrome metal on glass (positive tone-only) |
$2500 |
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Negative polarity (features transparent) • 30 nm minimum feature size (soft X-ray) • 50 nm minimum feature size (hard X-ray) |
$1250 |
| • Custom chip sizes | Contact us |
カスタムフィルム/基材
較正基準は、堅牢な低応力窒化シリコン膜上に標準的な5 mmx 5 mmフレーム上に作製した。溶融石英基板は、クロム特性を有する光学顕微鏡に用いることができる。
較正基準は、堅牢な低応力窒化シリコン膜上に標準的な5 mmx 5 mmフレーム上に作製した。
溶融石英基板は、クロム特性を有する光学顕微鏡に用いることができるカスタム設計
カスタム設計では、高解像度機能を持つ施設ロゴを追加できます（最小構成部品サイズは50 nmを推奨）。最適な解像度を得るためには、GDSII、EPS、またはベクトル形式でグラフィックを提供する必要があります。ロゴのコミットに関するヘルプが必要な場合は、お問い合わせください。
高分解能ANTロゴ、20ナノメートル特性、200ナノメートルに電気めっき全体レイアウト
メモ：最終設計は図のように完全ではない可能性があります。
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