BMF nanoArch&reg S 130システム概要

nanoArch S 130は、面投影マイクロ立体リソグラフィ（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術を用いた高精度の大幅な面マイクロスケール3 Dプリントを実現できる装置システムである。この技術は高精密紫外リソグラフィ投影システムを使用して、印刷する必要があるパターンを樹脂溝の液面に投影して、液面で樹脂を硬化して急速に微立体的に成形して、デジタルモデルから直接3次元の複雑なモデルとサンプルを加工して、サンプルの製作を完成する。この技術は成形効率が高く、印刷精度が高いなどの突出した優位性を備えており、現在最も有望なマイクロナノ加工技術の一つとされている。